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穿透折射率（RI）值范围为1.8至2.0+，残余层厚度（RLT）小于100nm

（映维网Nweon2023年01月30日）复合材料制造商Pixelligent日前宣布，团队将于下周举行的PhotonicsWest大会介绍其用于ExtendedReality设备的低残余层厚度PixNIL产品。这家公司表示，凭借穿透折射率（RI）值范围为1.8至2.0+，残余层厚度（RLT）小于100nm，这一组合提供了XR主流普及所需的优异光学性能。

Pixelligent指出，对于XR头显，更高的穿透折射率RI对应于更宽的视场，而高RI和低RLT的组合在XR器件中提供了一系列的光学性能，并提供了更容易的折射率匹配。Pixelligent的PixNIL产品及其最近推出的PixJet配方有含溶剂和无溶剂两种版本，涵盖了广泛的高折射率，可以满足客户的一系列要求。例如，所述产品可用于制造具有优异光学性能和坚固机械性能的高折射率薄膜。

当然，具体的优势将由Pixelligent的应用工程总监彼得·古斯驰（PeterGuschl）在1月30日太平洋标准时间上午10点50分的演讲中进行介绍。其中，他的演讲题为“扩展现实的紫外线稳定高折射率纳米复合材料”。

Pixelligent的总裁兼首席执行官克雷格·班德斯（CraigBandes）表示：“在XR设备的主流竞争中，获胜者将是能够提供卓越光学性能以及适用于长时间佩戴的丰富功能头显。作为一家专注于用高性能材料推动光学创新的公司，我们非常高兴能在这场顶级的全球盛会展示我们PixNIL产品的最新技术细节。”